光化學(xué)反應儀的應用

　　光化學(xué)反應儀系列主要用于研究氣相或液相介質(zhì)、固定或流動(dòng)體系、紫外光或模擬可見(jiàn)光照、以及反應容器是否負載光催化劑等條件下的光化學(xué)反應。具有提供分析反應產(chǎn)物和自由基的樣品，測定反應動(dòng)力學(xué)常數，測定量子產(chǎn)率等功能，廣泛應用化學(xué)合成、環(huán)境保護以及生命科學(xué)等研究領(lǐng)域。
 

　　目前，各種干擾在各類(lèi)工業(yè)現場(chǎng)中均存在，所以?xún)x表及控制系統的可靠性直接影響到現代化工業(yè)生產(chǎn)裝置安全、穩定運行，系統的抗干擾能力是關(guān)系到整個(gè)系統可靠運行的關(guān)鍵。隨著(zhù)DCS、現場(chǎng)總線(xiàn)技術(shù)的應用，被控對象和被測信號往往分布在各個(gè)不同的地方，并且他們與控制站之間也有相當長(cháng)的距離，因此，信號線(xiàn)和控制線(xiàn)均可能是長(cháng)線(xiàn)。其次，現場(chǎng)往往有許多強電設備，它們的啟動(dòng)和工作將對測控系統產(chǎn)生強烈的影響。同時(shí)來(lái)自空間的輻射干擾、系統外引線(xiàn)干擾等問(wèn)題尤為突出。因此，除有用信號外，由于各種原因必然會(huì )有一些與被測信號無(wú)關(guān)的電流或電壓存在，這種無(wú)關(guān)的電流或電壓通稱(chēng)“干擾(噪聲)”。在測量過(guò)程中，這些干擾若不能很好地處理，那它將歪曲測量結果，嚴重時(shí)甚至使儀表或計算機不能工作。
 

　　大量實(shí)踐說(shuō)明，抗干擾性能是各種電子測量裝置的一個(gè)很重要的問(wèn)題，尤其是DCS、現場(chǎng)總線(xiàn)技術(shù)的廣泛應用和迅速發(fā)展，有效地排除和抑制各種干擾，已成為必需探討和解決的迫切問(wèn)題，因為干擾不僅能造成邏輯混亂，使系統測量和控制失靈，以致降低產(chǎn)品的質(zhì)量，甚至使生產(chǎn)設備損壞，造成事故。因此，抗干擾技術(shù)在儀表測控系統的設計、制造、安裝和日常維修中都必需給予足夠的重視。